Китайские физики создали способ массового формирования трёхмерных элементов фотонных чипов, который сокращает основной этап их изготовления с нескольких часов до десятков секунд.
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) создал установку электронно-лучевой литографии (ЭЛЛ) для изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без масок по нормам 150 нм, сообщает CNews.
Рост спроса при ограниченном предложении неизбежно поднимает цены — это видно на рынке памяти. Теперь очередь дошла до литографического оборудования ASML для производства чипов, чем крайне недовольна TSMC.
Бельгийский центр IMEC представил прототип квантового чипа, изготовленного с помощью High-NA EUV-литографии. Это первое устройство с кубитами на квантовых точках, созданное таким методом.
Аналитики JPMorgan и Morgan Stanley заявили, что ASML способна поставить более 110 Low-NA сканеров без расширения мощностей, что выше рыночных ожиданий в 90 сканеров.
Nikon десятилетиями производит литографическое оборудование, но уступает в известности ASML. Спрос высок, поэтому Nikon намерена конкурировать более низкими ценами.
ASML разрабатывает новый инструмент упаковки. Глава компании Кристоф Фуке выступил против законопроекта США о запрете продаж DUV-литографии в Китай. Он отметил, что эти системы устарели на 8 поколений, а санкции лишь ускорят создание китайского оборудования.
Компания ASML объявила, что первые продукты, созданные с использованием литографических систем High-NA EUV, появятся в ближайшие месяцы. Пока главным покупателем этого дорогого оборудования является Intel, которое использует его для экспериментов в рамках перехода на технологию 14A.
ASML — нидерландская компания, единственный производитель машин для EUV-литографии, необходимых для создания самых передовых чипов. Её оборудование размером со школьный автобус стоит от $200 до $400 млн.