Queen

В Китае запустили серийный выпуск иммерсионных DUV-сканеров

image source

Неназванная государственная компания из Шанхая запустила серийный выпуск установок иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). Первые поставки намечены уже на этот год, сообщает The Information со ссылкой на два источника.

Среди первых заказчиков называют SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителя памяти ChangXin Memory Technologies. Все три компании фигурируют в законопроекте Конгресса США, запрещающем им закупать передовое оборудование у нидерландской ASML.

Планы по объёмам скромные: пять установок в 2026 году и около 20 в 2027-м. Большинство компонентов — китайского производства, но часть критически важных деталей по-прежнему везут из Японии, а задержки поставщиков сдерживают выпуск.

Имя производителя не раскрывается. Известно, что компания переманивает инженеров из других китайских фирм, включая государственный стартап Shanghai Yuliangsheng Technology. SMIC тестирует иммерсионный сканер Yuliangsheng с сентября 2025 года.

Иммерсионная DUV-литография позволяет формировать элементы по 28-нм нормам за одну экспозицию, а при многократном нанесении рисунка — доходить до 7 нм. Плата за это — рост ошибок совмещения слоёв и падение выхода годных кристаллов.

Глава ASML Кристоф Фуке отмечает, что всплеск литографии в производстве DRAM отчасти связан с отказом клиентов от мультипаттернинга в пользу более дешёвой EUV с одной экспозицией.

Финдиректор ASML Роджер Дассен заявил, что в 2026 году компания отгрузит около 130 иммерсионных систем — на уровне 2025 года. В 2027-м выпуск планируют нарастить на 30 %, ещё столько же изучают на 2028 год.

Доля Китая в чистой выручке ASML в этом году — около 20 %, в основном за счёт спроса на логику массового сегмента. Годом ранее показатель составлял 33 %.

По оценке AI Futures Project, коммерческое внедрение китайской иммерсионной DUV ожидается лишь к середине 2030-х, а 98,7 % рынка останется за ASML. Квалификация новых машин для серийного производства займёт месяцы.

По качеству сборки и производительности китайские сканеры уступают оборудованию ASML. Собственная разработка EUV, о прототипе которой Reuters сообщало в декабре, до практического применения пока не дошла.

источник

0 комментариев

Редактор комментария
Пока нет комментариев
Станьте первым, кто оставит мнение на этот топик