Компания ASML объявила, что первые продукты, созданные с использованием литографических систем High-NA EUV, появятся в ближайшие месяцы. Пока главным покупателем этого дорогого оборудования является Intel, которое использует его для экспериментов в рамках перехода на технологию 14A.
TSMC пока оценивает High-NA EUV со стороны, считая его слишком дорогим для массового производства. Samsung и SK hynix, напротив, активно приобретают такие сканеры для выпуска как логических компонентов, так и микросхем памяти.
Intel начала закупать системы TwinScan EXE:5000 ещё в середине 2023 года, а к концу 2025 года установила серийную TwinScan EXE:5200. Новый сканер обрабатывает до 220 кремниевых пластин в час, уменьшая геометрию чипов и повышая плотность транзисторов.
Генеральный директор ASML Кристоф Фуке на мероприятии Imec отметил: "В ближайшие несколько месяцев мы ожидаем увидеть первые продукты — как в логике, так и в памяти, обработанные на системах High-NA". Одна такая система стоит почти $400 млн, но снижает потребность в оснастке и ускоряет производство чипов.
0 комментариев