ASML пригласила Илона Маска на закрытую конференцию, где обсудят проект TeraFab. Производство чипов для ИИ столкнулось с дефицитом мощностей, и Маску потребуется убедить нидерландского поставщика в сотрудничестве.
TSMC располагает несколькими литографическими системами High-NA EUV, но использует их только для исследований. Массовое производство с их помощью пока не планируется. Глава компании Си-Си Вэй заявил, что внедрение начнется после снижения стоимости и полного использования преимуществ. Одна такая система стоит около $400 млн.
Nikon десятилетиями производит литографическое оборудование, но уступает в известности ASML. Спрос высок, поэтому Nikon намерена конкурировать более низкими ценами.
ASML разрабатывает новый инструмент упаковки. Глава компании Кристоф Фуке выступил против законопроекта США о запрете продаж DUV-литографии в Китай. Он отметил, что эти системы устарели на 8 поколений, а санкции лишь ускорят создание китайского оборудования.
Компания ASML объявила, что первые продукты, созданные с использованием литографических систем High-NA EUV, появятся в ближайшие месяцы. Пока главным покупателем этого дорогого оборудования является Intel, которое использует его для экспериментов в рамках перехода на технологию 14A.
Нидерланды официально протестуют против предложенного США законопроекта Match Act, который ужесточает ограничения на поставки литографического оборудования в Китай. Министр торговли Сьорд Сьордсма направил письмо американским законодателям, назвав экстерриториальные меры неприемлемыми.
ASML — нидерландская компания, единственный производитель машин для EUV-литографии, необходимых для создания самых передовых чипов. Её оборудование размером со школьный автобус стоит от $200 до $400 млн.
