Аналитики UBS полагают, что китайские компании способны наладить массовый выпуск оборудования для погружной литографии с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV immersion lithography) уже в течение ближайших двух-пяти лет.
На рынке литографического оборудования происходят важные сдвиги: несмотря на консервативную позицию тайваньской TSMC — крупнейшего контрактного производителя чипов в мире — по отношению к High-NA EUV-сканерам стоимостью около $400 млн за штуку, интерес к этой технологии растёт у других игроков отрасли.
Слухи о запуске в Китае серийного производства оборудования для иммерсионной DUV-литографии всколыхнули рынок. Такие системы позволяют выпускать относительно продвинутые чипы, но, по оценкам экспертов, отстают от техники нидерландской ASML.
Неназванная государственная компания из Шанхая запустила серийный выпуск установок иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). Первые поставки намечены уже на этот год, сообщает The Information со ссылкой на два источника.
Zeiss SMT ввела в эксплуатацию новое производственное здание в Оберкохене. Расширение важно для ASML, так как мощности Zeiss ограничивают выпуск EUV-сканеров. Производство оптики для High-NA EUV остаётся сложным: одна проекционная система содержит более 40 тысяч деталей и весит 12 тонн.
Компания ASML объявила о единовременном вознаграждении сотрудников по всему миру в размере 20 тысяч евро в виде акций. Решение принято на фоне растущего спроса на оборудование для производства полупроводников из-за развития ИИ-инфраструктуры.
Рост спроса при ограниченном предложении неизбежно поднимает цены — это видно на рынке памяти. Теперь очередь дошла до литографического оборудования ASML для производства чипов, чем крайне недовольна TSMC.
Акции ASML на европейских торгах в пике росли на 7,9%, но итоговый прирост ограничился 5,5%. С начала года бумаги компании подорожали на 115%.
По данным Reuters со ссылкой на представителей ASML, Intel уже начала использовать передовое литографическое оборудование High-NA EUV при выпуске части мобильных процессоров Panther Lake.
Министр торговли Нидерландов Сьерд Сьердсма посетил Вашингтон для встречи с главой Минторга США и членами Конгресса. Цель — выступить против законопроекта MATCH Act, который запретит китайским чипмейкерам доступ к западному полупроводниковому оборудованию. Это сильно ударит по ASML — единственному в мире производителю литографических машин для передовых AI-чипов.