TSMC располагает несколькими литографическими системами High-NA EUV, но использует их только для исследований. Массовое производство с их помощью пока не планируется. Глава компании Си-Си Вэй заявил, что внедрение начнется после снижения стоимости и полного использования преимуществ. Одна такая система стоит около $400 млн.
Конкуренты, включая Intel, Samsung и SK hynix, уже заказывают High-NA EUV у ASML. Intel активно освещает этот процесс, в то время как TSMC сохраняет скептицизм. Однако TSMC экспериментирует с оборудованием.
На собрании акционеров Вэй также выразил обеспокоенность демографической ситуацией на Тайване. Низкая рождаемость может привести к нехватке инженеров. Хотя внутри TSMC рождаемость в пять раз выше среднего, дефицит кадров усилится.
TSMC планирует осваивать техпроцессы вплоть до A13 и A12 (приближение к 1 нм) без High-NA EUV до 2029 года. Intel может начать использовать такие сканеры в техпроцессе 14A с 2027 года. Вэй заявил, что TSMC не боится конкуренции.
0 комментариев