Первый параллельный микропроцессор на двумерном полупроводнике MoS2 создан совместно Huawei и Нанкинским университетом. Слой дисульфида молибдена имеет толщину менее 1 нм, что позволяет уменьшить транзисторы и повысить плотность без использования передовых литографов.
Чип «Мэнци-1000» содержит 1433 транзистора на 4 металлических слоях. Плотность — 9336 транз./мм², сопоставима с 2–3 нм. Он параллельно выполняет арифметику и хранит данные в регистровом файле. Частота — 1 кГц.
Разработка демонстрирует возможность обхода санкционных ограничений на литографию. Используя 2D-материалы, Китай может выпускать чипы, не уступающие западным, но на местном оборудовании. Это продлевает закон Мура новыми средствами.
0 комментариев