По данным Reuters со ссылкой на представителей ASML, Intel уже начала использовать передовое литографическое оборудование High-NA EUV при выпуске части мобильных процессоров Panther Lake.
Стоимость одного такого сканера превышает $400 млн, поэтому масштабы применения пока невелики. Однако для Intel важно изучить нюансы, возникающие при массовом производстве чипов на новом оборудовании.
Как это обычно бывает, новая технология применяется для обработки лишь избранных слоёв чипа. Цель эксперимента — накопить практический опыт, который поможет Intel и ASML оптимизировать дальнейшее внедрение оборудования.
Эксперименты с High-NA EUV корпорация ведёт с 2024 года, но до сих пор не была уверена, когда именно стоит применять его в условиях серийного выпуска.
Процессоры Panther Lake производятся по технологии Intel 18A, которая сама по себе не требует High-NA EUV. Тем не менее Intel начала эксперименты именно в её рамках.
Широкое применение High-NA EUV намечено на этап освоения техпроцесса 14A — ориентировочно в 2027 году. Конкурирующая TSMC темой тоже интересуется, но пока считает оборудование слишком дорогим для внедрения.
0 комментариев