Учёный из OIST предложил радикально упростить оптику EUV-литографии. Вместо сложной внеосевой схемы используется линейная геометрия: маска, оптика и пластина на одной оси. Это может снизить стоимость оборудования в 3-4 раза и печатать элементы 2-3 нм.